基片偏压对磁控溅射制备TiB2涂层结构及性能的影响

谷文翠;李寿德;王怀勇;陈春立;李朋;黄峰

航空材料学报 ›› 2014, Vol. 34 ›› Issue (5) : 37-42.

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航空材料学报 ›› 2014, Vol. 34 ›› Issue (5) : 37-42. DOI: 10.11868/j.issn.1005-5053.2014.5.006
论文

基片偏压对磁控溅射制备TiB2涂层结构及性能的影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Influence of Bias Voltage on Microstructure and Properties of Magnetron Sputtering TiB2 Coating

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2014, 34(5): 37-42 https://doi.org/10.11868/j.issn.1005-5053.2014.5.006
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2014, 34(5): 37-42 https://doi.org/10.11868/j.issn.1005-5053.2014.5.006
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
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