CVD过程中温度对SiC涂层沉积速率及组织结构的影响

刘荣军;张长瑞;刘晓阳;周新贵;曹英斌

航空材料学报 ›› 2004, Vol. 24 ›› Issue (4) : 22-26.

PDF(266 KB)
  • 中国科学引文数据库(CSCD)核心期刊
  • 中国核心期刊
  • 文摘与引文数据库(Scopus)
  • 剑桥科学文摘(CSA)
  • 英国INSPEC数据库
PDF(266 KB)
航空材料学报 ›› 2004, Vol. 24 ›› Issue (4) : 22-26.
论文

CVD过程中温度对SiC涂层沉积速率及组织结构的影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

The effects of deposition temperature on the depositon rates and structures of CVD SiC coatings

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2004, 24(4): 22-26
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2004, 24(4): 22-26
中图分类号：

参考文献

列表( 原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序 ) 可视化分析

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(266 KB)

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章

/

〈 〉